根據(jù)不同的標(biāo)準(zhǔn)，等離子體有不同的分類方法。根據(jù)是否有人為的因素將其分為自然等離子體(廣泛存在于宇宙空間)和人工等離子體(人們根據(jù)自己的意愿在特定環(huán)境下人工制造出來的，它是人們對(duì)等離子體研究和應(yīng)用的結(jié)果)。
根據(jù)電離程度可分為完全電離、部分電離和弱電離三種。
根據(jù)等離子體活性粒子密度的不同可分為稠密等離子體和稀薄等離子體。
可以根據(jù)不同方法產(chǎn)生的等離子體來分類,由不同方法產(chǎn)生的等離子體其性能很不相同，并有不同的用途。
等離子體分類
在等離子體應(yīng)用于材料表面改性的技術(shù)，根據(jù)等離子體放電氣壓的不同，分為低壓等離子體和常壓等離子體。
低壓等離子體制備時(shí)使用的氣體稀薄，它的壓力只有幾百個(gè)帕斯卡，當(dāng)采用直流電壓或高 頻電壓做電場(chǎng)時(shí)，由于電子的質(zhì)量很小，在電場(chǎng)中容易得到 加速，從而可獲得平均可達(dá)數(shù)電子伏特的高能量，而離子由 于質(zhì)量較大很難被電場(chǎng)加速，由于氣體粒子溫度較低(具有 低溫特性)，因此把這種等離子體又稱為低溫等離子體。由 于氣體密度很低所以用溫度計(jì)測(cè)得的溫度與外界環(huán)境的溫度 相差無幾，所以實(shí)際上是低溫等離子體。 常壓等離子體，當(dāng)使用的氣體密度較高，它的壓強(qiáng)處于 接近常壓狀態(tài)并從外界給它大量能量時(shí)，粒子之間的相互碰 撞頻率大大增加，各種微粒的溫度大大提高,所以把這種條 件下得到的等離子體又稱為高溫等離子體，太陽就是自然界 中的高溫等離子體。目前投人使用的主要是低溫等離子體, 但接近常壓的等離子體的應(yīng)用正在增加。
根據(jù)產(chǎn)生等離子體時(shí)使用的氣體的化學(xué)性質(zhì)不同，可分為不活潑氣體等離子體和活潑氣體等離子體兩類，不活潑氣體如氫氣(Ar)、氮?dú)?N2)、氟化氮(NF3)、四氟化碳(CF4)等,活潑氣體如氧氣(O2)、氫氣(H2)等,不同類型的氣體在清洗過程的反應(yīng)機(jī)理是不同的，活潑氣體的等離子體具有更強(qiáng)的化學(xué)反應(yīng)活性。
大多數(shù)情況下，等離子體是按照溫度來分類的:可將等離子體分為高溫等離子體和低溫等離子體。高溫等離子體，如太陽、受控?zé)岷司圩兊入x子體和激光聚變等離子體等，其熱力學(xué)溫度為106-108K，又稱為完全熱力學(xué)平衡等離子體。其中，按熱力學(xué)性質(zhì)的不同，低溫等離子體又可以分為熱平衡等離子體和非熱平衡等離子體。二者的的界線就是等離子體電離時(shí)的溫度和主體溫度（宏觀溫度）的區(qū)別，非熱力學(xué)平衡等離子體的宏觀溫度遠(yuǎn)小于等離子體電離時(shí)的電子溫度，所以又稱冷等離子體電子溫度，其中Te為3×102-105K。當(dāng)?shù)入x子體的中性粒子溫度與電子溫度局部達(dá)到熱力學(xué)平衡時(shí)，我們把這種等離子體叫局部熱力學(xué)平衡(Local Thermodynamic Equilibrium，LTE)等離子體，其熱力學(xué)溫度為103-105K。近年來，低溫等離子體技術(shù)廣泛應(yīng)用在化學(xué)合成反應(yīng)、聚合反應(yīng)、等離子體鍍膜、表面處理和功能膜制備等領(lǐng)域。例如：電暈放電等離子體技術(shù)的表面處理，濺射制膜和輝光放電催化反應(yīng)等，已取得不少成就。特別值得注意的是，由于受到熱力學(xué)平衡條件的限制，某些化學(xué)反應(yīng)在一般條件下不可能或難以進(jìn)行，但利用非平衡等離子體可使反應(yīng)在低溫下獲得高能量，激活反應(yīng)分子，進(jìn)而形成活性原子、離子和自由基等活性物種，從而使得反應(yīng)能夠在較緩和的環(huán)境下進(jìn)行。
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