等離子體清洗技術(shù)介紹
文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2022-06-22
電子組裝技術(shù)、精密機(jī)械制造的進(jìn)一步發(fā)展,對(duì)清洗技術(shù)提出越來(lái)越高的要求。環(huán)境污染控制也使得濕法清洗 的費(fèi)用日益增加。等離子清洗工藝在現(xiàn)代清洗工藝中所占比例越來(lái)越大。
等離子體
存在于我們周?chē)奈镔|(zhì)有三種形態(tài)：固態(tài)、液態(tài)及氣態(tài)，等離子體通常被稱(chēng)為物質(zhì)的第四態(tài)。普通氣體由電中性的分子或原子組成，電離氣體是電子、離子、原子、分子或自由基粒子組成的集合體，其中的正電荷和負(fù)電荷總數(shù)在數(shù)值上總是相等的。基于此種等離子體構(gòu)成，電離氣體表現(xiàn)出以下兩種性質(zhì)：
1、 電離氣體是一種導(dǎo)電流體，而又能在與氣體體積相比擬的宏觀尺度內(nèi)維持電中性；
2、電離氣體帶電粒子之間存在庫(kù)侖力，由此導(dǎo)致帶電粒子群的種種整體運(yùn)動(dòng)行為會(huì)受到磁場(chǎng)的影響和支配。
等離子體清洗技術(shù)
等離子體技術(shù)最重要的優(yōu)勢(shì)在于它的多功能性，它可用于多種材料的表面活化、清洗、刻蝕和沉積。
為什么用等離子體清洗?此工藝是直接把高能等離子體流施加到被清洗表面以達(dá)到等離子體清洗的目的。選擇不同的氣體種類(lèi)和配比，可以滿足很多等離子體清洗的要求。例如：用氧氣等離子體可以使有機(jī)物沉積被氧化掉；用惰性的氬氣等離子體可以使顆粒污染被機(jī)械地沖洗掉，用氫氣等離子體可以消除金屬表面氧化，等等。
應(yīng)用等離子體清洗金屬、陶瓷和塑料表面的有機(jī)物，大大增強(qiáng)了這些材料表面的附著力和鍵合力。隨著對(duì)這門(mén)技術(shù)的研究的不斷深入，其應(yīng)用已越來(lái)越廣泛。在電子領(lǐng)域，可用此技術(shù)做混合電路、PCB板、SMT、BGA、導(dǎo)線框和平板顯示器的清洗和刻蝕；在醫(yī)療領(lǐng)域也要應(yīng)用此種技術(shù)來(lái)改善各種導(dǎo)管、超細(xì)導(dǎo)管、過(guò)濾器、傳感器等醫(yī)療設(shè)置的光滑度、沾濕性等關(guān)鍵指標(biāo)。
在大規(guī)模集成電路和分立器件行業(yè)中，等離子體清洗一般應(yīng)用于以下幾個(gè)關(guān)鍵步驟中：
1、 去膠，用氧的等離子體對(duì)硅片進(jìn)行處理，去除光刻膠；
2、 金屬化前器件襯底的等離子體清洗；
3、 混合電路粘片前的等離子體清洗；
4、 鍵合前的等離子體清洗；
5、金屬化陶瓷管封帽前的等離子體清洗。
等離子體清洗技術(shù)的可控性、可重復(fù)性，反映在設(shè)備使用上具有經(jīng)濟(jì)、環(huán)保、高效、高可靠性和易操作性等優(yōu)點(diǎn)。
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