影響真空等離子清洗機清洗效果的工藝參數(shù)

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2019-04-18

真空等離子清洗機是利用等離子體中的高能粒子和活性粒子，通過轟擊或活化反應作用將材料表面污物去除的過程。影響等離子清洗機清洗效果的因素有很多，其中最主要的是電源功率頻率、工作壓強、工作氣體種類以及清洗的時間。

以下下是常見的影響等離子清洗機清洗效果的因素：

(1) 功率
等離子體的密度和能量與射頻功率成正比關系，所以在清洗時應該增大清洗功率從而提高清洗的程度以及清洗的效率，但當功率過大，離子溫度會上升，在高溫條件下金屬基片或其他易被氧化的物質(zhì)會被氧化從而被破壞，另外不耐高溫零件例如塑料等也會損壞，因此在清洗之前可以借助模擬合理選擇需要的功率，既要滿足經(jīng)濟性要求又要保證清洗效果以及清洗的效率。

(2) 時間
通常在保證清洗效果的同時需要的時間越少越好以提高清洗的效率，但所用時間是與各個參數(shù)之間相互關聯(lián)的。一般來說，功率越大，所需要清洗的時間就會越短，但相應的功耗也會越大，功率的增大會使反應腔體與零件的溫度升高，同時也會造成其他的多種問題，例如零件被破壞、發(fā)生刻蝕等。因此需要不斷摸索清洗時間、功率、壓力以及氣體種類和配比的關系選擇一個最佳的清洗工藝。

(3) 溫度
在等離子清洗中，被清洗件在離子的物理轟擊作用下，溫度會逐漸升高，溫度通常與射頻功率、頻率、充氣速率和清洗時間等相關。一般來說，射頻頻率越低，溫度越高；射頻功率越大，溫度越高；充氣速率越低，溫度越高；清洗時間長會造成溫度升高。對于不同的材料，所能承受的最高溫度不同，金屬件一般無特殊要求但要注意防止金屬氧化，非金屬如塑料等溫度要低防止變形，因此在工藝選擇時需要綜合確定最佳參數(shù)。

(4) 壓強
等離子清洗時的壓力與工藝氣體的充入流量、真空室漏率和真空泵的有效抽速相關。通常情況下，真空室漏率和真空泵的有效抽速是固定值，因此調(diào)整工藝氣體的充入流量可以達到調(diào)整壓力的目的。針對不同的材料清洗時，壓力也是不同的，這主要取決于充入氣體在等離子清洗時的機制，是物理作用還是化學作用。當充入氬氣、氮氣等非反應性氣體時，清洗以物理作用為主，此時應減小氣體流量，調(diào)整較低的壓力，因為等離子清洗的物理機制是受激的離子轟擊被清洗件表面污染物，如果工作壓強過高，離子在加速到達零件表面之前，與其他離子碰撞的機率大大增加，能量損失較大，降低了物理清洗的效果；但工作壓力也不是越低越好，當壓力太低時，沒有足夠的活性反應氣體參與清洗，也會影響清洗效果。當需要以化學清洗機制為主時，要適當提高清洗時的工作壓力，壓力越高，參與反應的粒子數(shù)量越多，清洗的效果越好。

(5) 均勻性
均勻性是清洗質(zhì)量的評價指標，通常影響均勻性的因素有氣體流動、氣體種類和壓力。反應氣體的流動性直接影響清洗的均勻性，如本系統(tǒng)所考慮的充排氣管路設計，有利于獲得較好的均勻性，氣體從真空室上部充入，在中間激發(fā)等離子體清洗，下部排出廢氣；清洗時的氣體壓力也直接影響均勻性，壓力越低，分子的平均自由程越長，離子能量大且平均，清洗效果更好。

(6) 工藝氣體
1. 氬氣：氬氣等離子清洗主要利用物理作用，氬等離子原子尺寸大、離子能量高，且一般不與材料發(fā)生反應，因此是理想的物理清洗氣體。氬離子轟擊物體表面，污染物揮發(fā)并被真空泵抽走，達到清洗的目的。
2. 氧氣：氧氣等離子清洗主要利用化學作用，氧氣等離子體與物體表面的污染物發(fā)生化學反應，生成二氧化碳、一氧化碳和水。通常，用氧氣去除有機污染物效果最佳。
3. 氫氣：氫氣等離子清洗主要利用化學作用，氫氣等離子體與物體表面的氧化物發(fā)生化學反應，考慮到安全性，一般選擇氫氣和氬氣混合使用，利用清洗的還原性能和氬氣的物理轟擊作用，快速去除表面污物。

以上就是關于影響真空等離子清洗機清洗效果的工藝參數(shù)的大致內(nèi)容，選對工藝參數(shù)對產(chǎn)品的處理效果有非常大的影響，就拿反應氣體來說，如果一旦選錯，整個方向就都偏移了，你再去修改其他參數(shù)對處理效果都不會有太大改變，所以選對工藝氣體是等離子清洗機工藝參數(shù)選擇的第一步。一般來說，對于使用等離子清洗機的用戶來說，主要要選擇的幾個參數(shù)，一個是工藝氣體，一個是處理功率，另一個是處理時間，這三個參數(shù)是可以通過機器設置的，其他的像壓強、均勻性、溫度，基本上都是設備固定的。如果關于等離子清洗機的參數(shù)設置還有其他不明白的地方，可以找我們廠家咨詢。