脫模劑等離子清洗原理

文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2023-03-23

等離子應(yīng)用于清洗物體表面的污物，由于應(yīng)用等離子清洗所需的介質(zhì)一般由氫氣、氧氣、氫氣等組成，且清洗后生成的產(chǎn)物多為CO2、H2O等無污染的氣體，相對于濕法清洗工藝省去了干燥過程及廢水處理裝置，所以應(yīng)用其進(jìn)行大面積的表面處理是一種既經(jīng)濟(jì)又環(huán)保的方法。實(shí)踐證明，等離子清洗工藝可以有效的解決因脫模劑而導(dǎo)致的涂裝質(zhì)量不達(dá)標(biāo)的問題。無論是從未來生產(chǎn)工藝前瞻性,還是當(dāng)前生產(chǎn)遇到問題的直接性，都需要引入等離子清洗這種高新清洗技術(shù)用以解決上述問題，提高生產(chǎn)工藝及生產(chǎn)質(zhì)量。

等離子清洗原理

等離子體是由正離子、負(fù)離子和自由電子等帶電粒子和不帶電的中性粒子如激發(fā)態(tài)分子以及自由基組成的部分電離的氣體。在電子清洗中，主要是低壓氣體輝光等離子體。一些非聚合性無機(jī)氣體在高頻低壓下被激發(fā)，產(chǎn)生含有離子、激發(fā)態(tài)分子和自由基等多種活性粒子。這些活性粒子能與表面材料發(fā)生反應(yīng)，從而達(dá)到清洗的目的。

有機(jī)脫模劑的主要成分為有機(jī)物，在氧氣等離子體中的氧原子自由基、激發(fā)態(tài)的氧氣分子、電子以及紫外線的共同作用下，脫模劑最終被氧化成水和二氧化碳分子，并從物體表面被清除。等離子體中的活性氧與材料表面的脫模劑進(jìn)行氧化反應(yīng)。圖1是氧等離子體清洗過程原理圖。