等離子清洗的基本原理介紹

等離子清洗的基本原理即是等離子體通過其內(nèi)部具有特定反應(yīng)活性或高能量的粒子，如離子、電子、激發(fā)態(tài)的原子和分子以及自由基等等，去撞擊待清洗材料表面，將附著在表面的污染物或微顆粒物剝離或與產(chǎn)品表面的有機物發(fā)生反應(yīng)生成易揮發(fā)的氣體，隨真空泵排出，從而達到清潔材料表面的目的。

等離子清洗的基本原理介紹

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2023-06-14

低溫等離子體通常應(yīng)用于材料表面清洗，具有很高的作用強度高和低穿透能力，工藝處理簡單且效果好，環(huán)保節(jié)能等特點，可與材料表面發(fā)生一系列復雜的物理反應(yīng)或是化學反應(yīng)。

等離子清洗

等離子清洗的基本原理：

等離子清洗的基本原理即是等離子體通過其內(nèi)部具有特定反應(yīng)活性或高能量的粒子，如離子、電子、激發(fā)態(tài)的原子和分子以及自由基等等，去撞擊待清洗材料表面，將附著在表面的污染物或微顆粒物剝離或與產(chǎn)品表面的有機物發(fā)生反應(yīng)生成易揮發(fā)的氣體，隨真空泵排出，從而達到清潔材料表面的目的，屬于干法清洗技術(shù)，在不破壞材料表面特性的情況下，有效清除待清洗材料表面的污染物，其優(yōu)勢明顯，能替代傳統(tǒng)的濕法清洗技術(shù)。

等離子體清洗過程如下所示：

射頻激發(fā)產(chǎn)生等離子體→激發(fā)狀態(tài)(原子團、離子、中性分子)→等離子發(fā)生濺射、浸蝕→清洗反應(yīng)

射頻激發(fā)清洗氣體產(chǎn)生等離子體；處于激發(fā)態(tài)的粒子在待清洗材料表面發(fā)生濺射、浸蝕從而進行等離子清洗反應(yīng)。因為等離子體中存有電子、離子和自由基等活性粒子，其本身很容易和固體表面發(fā)生物理或是化學反應(yīng)。(1)原子團等自由基與待清洗產(chǎn)品表面的作用：等離子體自由基多于電子，而且呈現(xiàn)電中性，處于激發(fā)態(tài)的自由基具有很高的能量，容易與產(chǎn)品表面分子相結(jié)合不斷產(chǎn)生新的自由基，新形成的自由基也有很高的能量，易引發(fā)分解反應(yīng)產(chǎn)生小分子和新的自由基，從而引發(fā)產(chǎn)品表面上的物質(zhì)發(fā)生連續(xù)化學反應(yīng)最終分解成水和二氧化碳等易揮發(fā)物質(zhì)；(2)電子與產(chǎn)品表面的作用：電子撞擊產(chǎn)品表面，促使附著在產(chǎn)品表面的氣體分子產(chǎn)生化學分解或解吸，且大量的電子聚集于產(chǎn)品表面撞擊易引發(fā)化學反應(yīng)；(3)離子與產(chǎn)品表面的作用：通常帶正電荷的陽離子會加速向帶負電荷表面運動，導致產(chǎn)品表面的原子或分子獲得較大的動能，最終逃逸出產(chǎn)品表面，該現(xiàn)象被稱為濺射現(xiàn)象；(4)紫外線與產(chǎn)品表面的作用：其具有很強的光能，且穿透能力很強，可以將附著在產(chǎn)品表面的物質(zhì)分子鍵斷裂，可穿透產(chǎn)品的表層并深達數(shù)微米而進行反應(yīng)?？傊玫入x子體內(nèi)的各種高能量的物質(zhì)的活化性能，進行產(chǎn)品表面清洗，將附著在待清洗產(chǎn)品表面的氧化物及污染物脫附。

以上就是國產(chǎn)等離子清洗機廠家納恩科技關(guān)于等離子清洗的基本原理介紹，等離子清洗與傳統(tǒng)濕法清洗相比具有如下優(yōu)點：等離子清洗無需使用化學溶液，如酸、堿或其它有機溶劑等，無腐蝕等隱患，安全可靠；等離子清洗后無廢液產(chǎn)生，有利于環(huán)境保護。